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第1061章 什么是浸液系统(1/2)

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这样的话,当然当不得真的,大家也权当一乐。不过,现场的气氛更加活跃,目的达到了。

待菜全部上齐,酒也开好后,食堂的工作人员离开,龙建华这才说道,“章总刚才开了一个头,把问题抛出来了,大家边吃边聊,把下一步的工作思路说说。”

章中牟笑道,“我刚才还没讲完,被他们这些要喝酒的家伙引偏了。这个芯片出来,意味着电子技术会跨出一大步,从电脑到手机到数字微波炉的产品,都会更新换代。”

林博士点头,“这一点是毋容置疑的。研究院那些研究所,接下来会有很多工作要做。有大量的产品要升级,甚至有全新的产品出现。”

黎赛普把嘴里的食物咽下,“这一点,研究院已经有很多思路,有的甚至已经动手,就等升级的芯片出现。各位等着吧,一个月内,准备将自己家里的家电升级换代。”

刘芷菲笑道,“身在重世集团,真的有些悲哀。经常出现新产品,看到技术水平有突破性,马上就想换。我们家的家电,都不知道换了几茬。”

章中牟哈哈大笑,“刘教授,你们家就应该带头消费。你们不但应该是忠诚客户,还应该是死忠粉。不过,这一次没必要马上换,因为这只是过渡性技术。林博士,龙博士,是不是?”

林博士点点头,“我们这次用的只是最简单的液体,是检验这个思路可不可行。这些东西都是龙博士制作出来的,她已经选择了一些方向,准备接下来继续试验。”

筠研点点头,“经过推算,下一步的波长会低于100nm。这样的话,芯片处理能力更强,产品会更加先进,功能更加强大。”

他们两个是这款光刻机设计的主要人员,他们两人讲话,其他人都仔细听着。

她继续说道,“这个进程是综合性很强的。这次能制作出这种芯片,得益于配套技术已经成熟,比如r 准分子激光、光刻胶、刻蚀机等能满足要求;如果再短,这些配套产品不一定能满足,最明显就是刻蚀系统、对准系统对于精度控制要求更高。”

“我们的光刻机,下一步需要在支持基片的尺寸范围、分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等进行全方位升级。”

“这些性能指标中,只有光源波长和我们没关系,其它都是我们光刻机研究所的研究内容。”

“我们都亲身经历了这次制作157nm,也发现很多问题。这次的有些改造能满足157nm的,但肯定不能满足更低波长的,所以我们下一步的任务很艰巨。”

刘芷菲偏头在龙建华耳边轻声说,“筠研张嘴就是一套套的专业名词,显得高深莫测。”

龙建华轻轻一笑,“你跑到人家专业团队里来,能听懂几个就很不错了。”

她轻哼一声,又坐正边吃边听各人的发言……

157nm芯片的推出,虽然无论研究院还是集团都没对外宣传,但还是有小道消息传出,马上引发业界震惊。

因为目前采用都是r 准分子激光,其波长是193 nm,大家在这个阶段停留的时间已经很久了;忽然之间出现157nm,等于突破了这一关口,意味着相关技术都取得了突破。

这个消息,让一大片人震惊,也让一大片人激动,更让一些人感觉有点酸,还让一些人很恼火。

有媒体来预约采访,可得到的答复要等十天,因为研究团队现在很忙。

他们当然很忙。

这里要申请专利,今后的思路也有可以申请专利的,也要组织编写。

还要对未来的研究还要讨论。那晚吃完饭后,整个团队放假三天,这三天不是没任务的,而是只有支配时间,但三天后要进行接下来的项目讨论。


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